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产品简介

Sensofar S-neox白光干涉仪广泛应用于半导体、光学器件及超精密加工领域，具备表面形貌观测、2D/3D尺寸测量及图像自动拼接功能。

该设备具有高分辨率、大景深观察，纵向分辨率达0.1nm；能够进行表面粗糙度、平整度、台阶高度等微结构测量；

设备同时拥有白光干涉、相位差干涉、共聚焦、多焦面叠加等几种不同的测量功能技术，在使用中可以一键切换几种不同的测量模式，针对不同表面结构和不同精度要求的样品都能完成测量分析。

快速识别纳米级缺陷

直观呈现CVD喷头清洁度

●气流分布畸变：喷头微孔堵塞或局部收窄，破坏气体均匀性

●颗粒污染风险：残留物剥落形成颗粒，造成薄膜缺陷

●工艺漂移：同一批次内薄膜厚度、成分出现系统性偏差

●设备停机：严重堵塞时需停机拆解清洗，大幅降低产能

传统检测手段如目视检查、称重法、电镜观察等，存在灵敏度不足、破坏样品、耗时过长等问题，难以满足产线快速筛查需求。因此，在CVD工艺前后对喷头进行清洁度验证与表面状态评估，是保障工艺稳定性、提升产品良率的核心质控环节。

使用50倍干涉镜头测量

CVD喷头的三维轮廓图

针对CVD喷头质控需求，Sensofar的S-neox利用干涉技术，提供高效检测方案：5倍物镜4秒快速扫描排查疑似残留物，50倍物镜2秒精准成像观测微纳米细节；低噪声特性不受倍率限制，可捕捉纳米级缺陷，全程无需接触样品表面，避免二次污染或损伤，特别适用于对洁净度要求极高的CVD喷头检测，为喷头清洁度验证提供可靠支撑，助力薄膜工艺质量控制。

使用5倍干涉镜头测量

CVD喷头的三维轮廓图